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展开全部(清华大学材料科学与工程系 先进材料教育部重点实验室,北京 100083)一、内容简介石墨层间化合物(graphite intercalation compounds,简称GICs)是指采用物理、化学或电化学方法,将其他原子、分子、离子或离子团插入到石墨层间,形成一类新的化合物。插入物从石墨层面得到电子的GICs叫受主型GICs。受主型GICs的形成,是一个氧化/插层过程,首先是[O](及其他的氧化性物质)与石墨层的π电子作用,发生氧化,使层间距加大,引导插入剂进入石墨层间,实现插层。氧化过程是受主型GICs形成的一个控制环节,当插层剂本身氧化性不够时,插层反应十分缓慢甚至不能进行,此时为了保证GICs的形成,就要依靠附加的化学氧化剂或电化学阳极氧化来实现插层反应。GICs材料目前在工业上应用最大的是可膨胀石墨,它是制备柔性石墨及多孔石墨的主体原料。可膨胀石墨是以GICs的插层剂在高温快速加热时气化,产生巨大内压从而使石墨颗粒层间胀开,在C轴方向膨胀几十至几百倍而得名。绝大多数GICs都具有可膨胀性,但综合考虑,采用硫酸插层的H2SO4-GICs用作可膨胀石墨最经济,所以工程上也称酸化石墨。硫酸插层的可膨胀石墨的重要质量指标之一是其残硫含量,作为有害元素,它影响到柔性石墨等后续产品的质量。决定残硫含量的是硫酸氧化/插层过程及插入量。普通可膨胀石墨在900~1000℃膨胀后,残硫含量(1300~2000)×10-6,本项目利用化学法的氧化剂(H2O2)共插入或电化学阳极氧化控制氧化/插层过程,得到残硫S≤800×10-6的低硫可膨胀石墨。采用化学法制备H2SO4插层的可膨胀石墨时,H2SO4的氧化活性不够,在常温下不能自己插入到石墨层间,需要借助氧化剂来氧化石墨。实际上氧化剂本身也是一种插层剂,与H2SO4有共同插入的关系,氧化性越强,共插入过程越强。由氧化剂的标准电极电位可以判定其氧化剂的强弱,如表1所示。表1可见,纯过氧化氢H2O2是强氧化剂。采用H2O2/H2SO4的插层系统,还可避免其他氧化剂系统对石墨及环境造成的氮氧化物、金属离子残留引起的二次污染。现通常加入10%左右H2O2(30%浓度)的工艺,可制备S含量在(1300~2000)×10-6间的可膨胀石墨。技术关键是降硫。根据GICs理论,项目组另辟蹊径,一是利用氧化剂的共插层作用,减少H2SO4的插入,二是设计降低挥发分即残留插层的H2SO4量的方法来降硫。这就需要加大氧化强度,提高H2O2的加入量。但是由于H2O2与H2SO4混合的强烈放热效应,使H2O2部分分解,大于10%的加入量很难实现。项目组经过数百次的试验,多次修订方案,设计出控温混合方法和装置,防止了H2O2的分解,成功实现超量H2O2与H2SO4的均匀混合。另一方面,根据挥发分(主要是残留H2SO4)与膨胀倍率和残硫量的关系。普通膨胀石墨挥发分为10%~15%,如果控制在5%~10%,残硫就可降到800×10-6以下,膨胀容积>160 mL/g。实际送检材料,挥发分4.2%,S含量为553×10-6,膨胀容积158 mL/g。降低挥发分的关键是H2O2共插入,减少了H2SO4插入量,并且在GICs的水洗、烘干时,[O]的现脱逸形成了H2SO4挥发的通道,使得挥发分降低。该技术根据GICs理论,利用氧化和插入的相互关系,加大氧化强度,在H2O2-H2SO4体系中加入过量双氧水,使H2O2与H2SO4共插入,从而制备出合格的低硫优质可膨胀石墨。二、鉴定、获奖、专利情况该技术获得了中国发明专利(专利号:ZL200410090866.2)。已赞过已踩过你对这个回答的评价是?评论
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