3DScienceValley · 2018/10/18在光线下形成聚合物或长链分子的树脂或其他材料，对于从建筑模型到功能性人体器官部件的3D打印而言是十分有吸引力的。但是，在单个体素的固化过程中，材料的机械和流动特性会发生怎样变化，这一点很神秘。体素是体积的3D单位，相当于照片中的像素。图为聚合树脂单个体素的3D地形图像，被液体树脂包围。（NIST的研究人员使用样品耦合共振光流变学（SCRPR）技术来测量3D打印和固化过程中材料性质在小尺度上实时变化的方式和位置。）图片来源：NIST现在，美国国家标准与技术研究院（NIST）的研究人员已经展示了一种新型的基于光的原子力显微（AFM）技术——样品耦合共振光学流变学（SCRPR），它可以在材料固化过程中以最小的最小尺度测量材料性质在实际中的变化方式和位置。NIST材料研究工程师Jason Killgore说：“我们对工业方法产生了浓厚的兴趣，而这只是一些会议讨论的结果。”他和他的同事现在已经在“Small”杂志上发表了这项技术。三维印刷或增材制造受到称赞，可以十分灵活、高效地生产复杂零件，但其也有缺点，就是会在材料特性方面引入微观变化。由于软件将零件渲染为薄层，在打印前三维重建它们，因此材料的整体属性不再与打印零件的属性相匹配。相反，制造零件的性能取决于打印条件。NIST的新方法可以测量材料如何随亚微米空间分辨率和亚毫秒时间分辨率发展的——比批量测量技术小数千倍且更快。研究人员可以使用SCRPR来测量整个固化过程中的变化，收集关键数据，以优化从生物凝胶到硬质树脂的材料加工。这种新方法将AFM与立体光刻技术相结合，利用光线对光反应材料进行图案化，从水凝胶到增强丙烯酸树脂。由于光强度的变化或反应性分子的扩散，印刷的体素可能变得不均匀。AFM可以感知表面的快速微小变化。在NIST SCRPR方法中，AFM探针持续与样品接触。研究人员采用商业AFM，使用紫外激光在AFM探针与样品接触的位置或附近开始形成聚合物（“聚合”）。该方法在有限时间跨度内，在空间中的某一个位置处测量两个值。具体而言，它测量AFM探针的共振频率（最大振动的频率）和品质因数（能量耗散的指标），跟踪整个聚合过程中这些值的变化。然后可以使用数学模型分析这些数据，以确定材料属性，例如刚度和阻尼。用两种材料证明了该方法。一种是由橡胶光转化为玻璃的聚合物薄膜。研究人员发现，固化过程和性能取决于曝光功率和时间，并且在空间上很复杂，这证实了快速，高分辨率测量的必要性。第二种材料是商业3-D印刷树脂，在12毫秒内从液体变成固体。共振频率的升高似乎表明固化树脂的聚合和弹性增加。因此，研究人员使用AFM制作了单个聚合体素的地形图像。让研究人员感到惊讶的是，对NIST技术的兴趣远远超出了最初的3D打印应用。NIST的研究人员表示，涂料，光学和增材制造领域的公司已经开始感兴趣，有些正在寻求正式的合作。文章来源：新材料在线资料下载，请加入3D科学谷3D产业链QQ群：529965687更多信息或查找往期文章，请登陆www.51shape.com,在首页搜索关键词网站投稿请发送至2509957133@qq.com
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微纳器件光谱响应度测试系统
厂家: 北京卓立汉光仪器有限公司
DSR300系列微纳器件光谱响应度测试系统是一款专用于低微材料光电测试的系统。其功能全面，提供多种重要参数测试。系统集成高精度光谱扫描，光电流扫描以及光响应速率测试。40μm探测光斑，实现百微米级探测器的*对光谱祥响应度测量。超高稳定性光源支持长时间的连续测试，丰富的光源选择以及多层光学光路设计可扩展多路光源，例如超连续白光激光器，皮秒脉冲激光器，半导体激光器，卤素灯，氙灯等，满足不同探测器测试功能的要求。是微纳器件研究的优选。 功能：? 光谱响应度? 外量子效率? 单色光/变功率IV；? 不同辐照度IT曲线（分辨率200ms）? 不同偏压下的IT曲线? LBIC，Mapping? 线性度测试? 响应速率测试 微纳器件光谱响应度测试系统主要技术参数显微镜头标配：10倍超长工作距离物镜，工作距离大于17mmNA值：0.42光谱范围：350-800nm选配：1，50倍超长工作距离消色差物镜，工作距离大于17mmNA值：0.42光谱范围：480-1800nm 2，15倍紫外物镜，工作距离大于8.5mmNA值：0.32光谱范围：250-700nm 3，50倍超长工作距离紫外物镜，工作距离大于12mmNA值：0.42光谱范围：240-500nm 4，40倍反射式长工作距离工作距离大于7.8mmNA值：0.5光谱范围：200nm-20um光斑中心空心光源选配光源1、半导体激光器波长：405nm，532nm，633nm，808nm，980nm可选不稳定性：＜1% 2、皮秒脉冲激光器波长：375nm，405nm，488nm，785nm，976nm可选脉宽：100ps频率：1-20M Hz 3、氙灯光源光谱范围：250nm-1800nm不稳定性：＜1% 4、超连续白光激光光源光谱范围：400-2400nm频率：0.01MHz-200MHz脉宽：100ps光谱仪焦距：300mm；相对孔径：f/3.9；光学结构：C-T；光谱仪分辨率：0.1nm；倒线色散：2.7nm；波长准确度：±0.2nm波长重复性：±0.1nm扫描步距：0.005nm狭缝规格：圆孔抽拉式固定狭缝，孔径：0.2mm,0.5mm,1mm,1.5mm,2mm,2.5mm,3mm；三光栅塔台；光栅配置：1-120-300、1-060-500、1-030-1250，光栅尺寸：68×68mm6档自动滤光片轮，光谱范围200-2000nm；内置电动机械快门，软件控制快门开关；杂散光抑制比：10-5探针台配置4个探针座，配20/10微米针尖探针2米三同轴电缆，漏电流小于1pA。真空吸附样品台。探针座：ＸＹＺ方向12ｍｍ调节行程，0.75uｍ调节分辨率，0-30°调节探针角度。LBIC MaappingXY方向行程50mm，分辨率5um。数釆v 锁相放大器斩波频率：20Hz~1KHz；频率6位显示，2.4英寸屏，320×240液晶显示；电压输入模式：单端输入或差分输入；电压、电流两种输入模式； 满量程灵敏度：1nV至1V；电流输入增益：106或108V/A；动态储备：＞100dB；时间常数范围：10μs至3ks； v keithley2612B量程：100nA/1A最小信号：1nA本地噪音：100pa分辨率：100fa通道数：2 v keithley2636B量程：1nA/1A最小信号：10pA本地噪音：1pa分辨率：10fa通道数：2制冷样品台温度范围：-196℃-600℃，（-196℃需要选择专用冷却系统）全程温度精度/温度性：0.1℃/＜0.01℃光孔直径：2.4mm样品区域面积：直径22mm两个样品探针，1个LEMO接头（可增加至1探针）工作距离：4.5-12.5mm气密样品腔室，可充入保护性气体独立温度控制响应速率测试示波器型号：MDO32模拟带宽100MHz采样率5GS/s记录长度10M时间范围：uS-S，需要配合调制激光器使用时间范围：10nS-S,需要配合皮秒脉冲激光器使用 三维可调高稳定探针台结构，方便样品位置调节。内置三路半导体激光器或者两路光纤激光器，外置一路激光光路。可以引入可调单色光源，进行全光谱范围的光谱响应度测试。测试功能曲线：40um光斑@550nm@50倍物镜200um光纤 70um光斑@550nm@50倍物镜400um光纤5um光斑@375nm皮秒激光器@40倍物镜 紫外增强氙灯和EQ99光源的单色光能量曲线，使用40倍反射式物镜，300mm焦距光谱仪，光谱仪使用1200刻线300nm闪耀光栅，光斑直径大小80um。品牌: 卓立汉光/ZOLIX
型号: DSR300系列
价格: 10万 - 50万元
电话: 400-628-5299
免费留言咨询
nanoArch微纳3D打印机 P130 ，S130
厂家: 深圳市蓝星宇电子科技有限公司
nanoArch微纳3D打印机 P130 /S130产品详情nanoArch P130 微纳3D打印机nanoArch P130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。 科研级3D打印系统nanoArch P130是科研级3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。 NanoArch P130/S130系统性能性能参数nano Arch P130产品规格nano Arch S130产品规格光源：UV-LED(405nm)UV-LED(405nm)打印材料：光敏树脂光敏树脂光学精度：2μm2μmXY打印精度：2-10μm2-10μm打印层厚：5-20μm5-20μm打印样品尺寸：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)模式1：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)模式2：38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H)模式3：50mm(L)x50mm(W)x10mm(H)打印件格式：STLSTL系统外形尺寸：1720(L)x650(W)x1820(H)mm31720(L)x650(W)x1820(H)mm3重量：450kg450kg电气要求：200-240V,AC,50/60HZ,3KW200-240V,AC,50/60HZ,3KW注：样品高度典型2mm,最高10mm打印材料： 。通用型：丙烯酸类光敏树脂，如HDDA，PEGDA等 。个生化：高强度硬性树脂，纳米颗粒掺杂树脂，生物医用树脂等。系统特性： 。高精度：XY打印精度高达2μm； 。低层厚：5μm-20μm的打印层厚； 。微尺度打印能力； 。光学监控系统，自动对焦功能； 。配置气浮平台，提高打印质量； 。优良的光源稳定性； 。配备完善的样品后处理组件，包括抽真空及紫外后固化。品牌: 未知
型号: P130/S130
价格: 200万 - 300万元
电话: 400-860-5168转4527
免费留言咨询
微纳外协加工|衍射光学元件光栅超透镜微透镜阵列
厂家: 上海英生电子科技有限公司
微纳光学元器件外协加工|衍射光学元件|衍射光栅|超透镜|微透镜阵列 微纳光学元件是指面形精度可达亚微米级,表面粗糙度可达纳米级的自由光学曲面及微结构光学元件。由于其具有体积小、重量轻、设计灵活、易阵列化和可批量复制等优点,使其可完成传统光学元件无法实现的新功能,并可构成许多新型的光学系统。目前微光学元件阵列己经成功地应用于现代光学的各个领域,在军事上以及航空航天方面均具有非常重要的应用前景,因而微纳光学元件的制备也成为了表面微加工领域重要的热点研究方向。　　实验室平台拥有设备等共计200余台，其中主要设备（40余台）包括：　　图形化设备　　电子束曝光、激光直写、台式接触式光刻机、桌面式光刻机等　　薄膜沉积设备　　ICP-PECVD、LPCVD、磁控溅射、电子束蒸发镀膜、PE-ALD、DLC薄膜沉积等、电镀 （Au、Ag、Cu、Ni、Sn等）　　刻蚀设备　　ICP—RIE、RIE、IBE、DRIE深硅刻蚀、XeF2表硅刻蚀机、HF气相刻蚀等干法刻蚀设备和满足体硅、介质膜、金属氧化物、金属等的湿法刻蚀设备以及相配套的二氧化碳超临界释放设备　　表征和测试设备　　AFM、台阶仪、Raman光谱、SEM、FIB、共聚焦显微镜、白光干涉仪、红外热成像仪、FEMTO—TOOLS微纳力学测试仪、超高速相机、3D多普勒激光测振仪、DC／RF探针台（60GHZ）、网络分析仪（60GHz）、半导体分析仪、阻抗分析仪以及高精度电学原表等　　器件后道封装设备　　晶圆减薄、CMP抛光、晶圆键合、贴片机、划片机、打线机、固晶机、激光焊接机等团队自主研发的加工设备，封测设备。　　平台技术能力　　工艺整合及平台能力　　—导电DLC膜层（超滑副，导电超硬膜层等）　　—AIN／PZT薄膜工艺（压电驱动材料）　　—大尺寸高定向碳材料生长和器件加工工艺　　—键合：阳键合、玻璃焊料键合、共晶键合（AIGe）、扩散键合工艺　　—气氛或真空封装、Reseal　　—研磨减薄和原子抛光工艺　　—硅基全湿法微纳加工工艺—柔性衬底微纳器件加工　　制造与封测能力　　—硅通孔（TSV）玻璃通孔（TGV）　　—压力／气体／红外／湿度传感器　　—微流控芯片加工和相关测试　　一超滑射频／惯性器件加工能力　　—Die的全封装能力应用类别设备名称设备型号工艺参数镀膜低压力化学气相沉积(LPCVD)HORIS L6471-1可沉积SIN，TEOS，poly等薄膜 1-50片/炉热氧化炉管热氧化退火快速退火炉RTPAnnealsys AS-One 150高温度到1500℃, 升温速率大200℃/sFIB加工聚焦离子束 FIBThermo Fisher Scios 2 HiVacTEM样品制备SEM形貌观测场发射环境扫描电镜ESEMThermo Fisher Quattro SSEM能谱分析电子束蒸发镀膜-金属电子束蒸发FU-20PEB-950蒸镀金属薄膜、可做lift-off工艺镀膜、8寸基片向下兼容电子束蒸发镀膜-介质电子束蒸发FU-12PEB蒸镀介质薄膜一炉可镀10片四寸基片磁控溅射镀膜-金属磁控溅射系统FSE-BSLS-RD-6inch溅射金属薄膜、6寸基片原子层沉积等离子体增强原子层沉积系统ICPALD-S200当以Al2O3为主DLC镀膜类金刚石薄膜化学沉积系统CNT-DLC-CL200干法刻蚀干法刻蚀机北方华创硅Bosch和超低温刻蚀、SiO2与石英深刻蚀，8英以下IBE刻蚀离子束刻蚀系统(IBE)AE4三维结构材料刻蚀，刻蚀陡直度优于85度，刻蚀精度10nm等离子体去胶微波等离子体去胶机Alpha Plasma紫外光刻紫外光刻机SUSS MA6BA6GEN4对准精度：±0.5um，分辨率600nm电镀电镀机WPS-200MT镀Cu、镀Au、镀镍/镍合金临界干燥超临界点干燥仪Automegasamdri-915B划片切割机划片机Disco D323晶圆键合晶圆键合机SUSS MicroTec SB6Gen2阳键合AFM测试高分辨原子力显微镜Oxford Cypher ES原子力显微镜Park Systems NX20电子束光刻电子束光刻机Elionix ELS-F125G8不含匀胶等费用，材料费根据用胶类型另计　　我们提供快速MEMS器件 / 微纳米结构加工设计服务, 欢迎留言咨询。咨询电话：品牌: 未知
型号: nanofabrication
价格：面议
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免费留言咨询
德国海德堡 ULTRA高速掩膜版制作高端光刻机
厂家: 德国海德堡
ULTRA半导体級別图形发生器 The Semiconductor Laser Mask Writer光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统VPG +大尺寸曝光系统适合用于先进封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。 VPG +系统支持所有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。VPG + 1400是我们大的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。 VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及先进的Mura校正功能。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。品牌: 德国海德堡/HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM
型号: ULTRA
价格：面议
电话: 400-876-0025
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硅光微纳芯片外协加工|波导元件光栅耦合器光子晶体
厂家: 上海英生电子科技有限公司
微细加工技术是实现微机电系统的基础,也是微机电系统的核心技术和研究热点。微细加工技术在微电子、微光学、微流控芯片、蛋白及细胞阵列化等领域也有广泛应用。微细加工技术泛指制作微小尺寸器件或薄膜的方法,加工尺度从亚毫米级到纳米级,而加工单位一般从微米级至原子或者分子线度。微细加工技术种类很多,涉及多种物理、化学方法,这里主要根据加工方式以及加工环境介质进行分类。应用类别设备名称设备型号工艺参数镀膜低压力化学气相沉积(LPCVD)HORIS L6471-1可沉积SIN，TEOS，poly等薄膜 1-50片/炉热氧化炉管热氧化退火快速退火炉RTPAnnealsys AS-One 150最高温度到1500℃, 升温速率最大200℃/sFIB加工聚焦离子束 FIBThermo Fisher Scios 2 HiVacTEM样品制备SEM形貌观测场发射环境扫描电镜ESEMThermo Fisher Quattro SSEM能谱分析电子束蒸发镀膜-金属电子束蒸发FU-20PEB-950蒸镀金属薄膜、可做lift-off工艺镀膜、8寸基片向下兼容电子束蒸发镀膜-介质电子束蒸发FU-12PEB蒸镀介质薄膜一炉可镀10片四寸基片磁控溅射镀膜-金属磁控溅射系统FSE-BSLS-RD-6inch溅射金属薄膜、6寸基片原子层沉积等离子体增强原子层沉积系统ICPALD-S200当前以Al2O3为主DLC镀膜类金刚石薄膜化学沉积系统CNT-DLC-CL200干法刻蚀干法刻蚀机北方华创硅Bosch和超低温刻蚀、SiO2与石英深刻蚀，8英以下IBE刻蚀离子束刻蚀系统(IBE)AE4三维结构材料刻蚀，刻蚀陡直度优于85度，刻蚀精度10nm等离子体去胶微波等离子体去胶机Alpha Plasma紫外光刻紫外光刻机SUSS MA6BA6GEN4对准精度：±0.5um，分辨率600nm电镀电镀机WPS-200MT镀Cu、镀Au、镀镍/镍合金临界干燥超临界点干燥仪Automegasamdri-915B划片切割机划片机Disco D323晶圆键合晶圆键合机SUSS MicroTec SB6Gen2阳极键合AFM测试高分辨原子力显微镜Oxford Cypher ES原子力显微镜Park Systems NX20电子束光刻电子束光刻机Elionix ELS-F125G8不含匀胶等费用，材料费根据用胶类型另计　　我们提供快速MEMS器件 / 微纳米结构加工设计服务, 欢迎留言咨询。咨询电话：4008770879品牌: 未知
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光纤端面镀膜/微纳光纤/MFD模场直径匹配/边抛/D型/热扩散膨胀纤芯光纤定制加工
厂家: 筱晓（上海）光子技术有限公司
一,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工一,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工NIR-TEC-30-9-SA TEC（Thermally-diffused Expanded Core Fiber）光纤技术热膨胀光纤末端的模场直径。这可用于商业SI-SMF。模场直径在光纤末端增加一倍或三倍，改变折射率分布，减小数值孔径。轴向和间隙位移公差越大，耦合损耗越小。包层直径的较小变化可以插入金属箍并安装连接器(如右图)。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 热扩散膨胀纤芯光纤定制加工,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具二,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工二,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工NIR-SPF-S-SM-2 SPF系列边抛光纤/D型光纤(Side Polished Fiber)依赖我司全光纤加工技术，筱晓光子目前能够提供D形侧边抛磨光纤的加工定制服务.5年独te的边抛工艺技术，致使我们能够为客户精确地提供大批量的定制服务。客户只需要提供给我么他们需要抛磨的光纤类型，抛磨长度，抛磨深度。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 空气中低插入损耗● 支持多种适应光纤定制：● 不同的边抛深度● 裸露纤芯长度产品应用● 侧抛光光纤通过平行表面创建可定义长度和深度的衬底，● 以引导对渐逝场的访问，具有几乎零损耗。● 通过叠加结构的结构和折射率来指导波导特性。● 通过动态修改的结构尺寸，折射率或吸收，实现随时间变化的操纵的传播。● 光纤元件与光纤传感应用。技术参数工作波长nm430-2000nm空气中插入损耗dB＜0.1dB1.5折射率处衰减值dB45 (Typ. 60)边抛长度mm17光纤类型SMF-28E连接头类型FC/APC OR FC/PC备注： 1.所有的测试结果并不包含接头2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制具有不同抛光深度的覆盖折射率的衰减响应 - 理论线和数据点。产品结构三,微纳光纤定制加工三,微纳光纤定制加工微纳光纤是一种直径接近或小于传输光波长的波导，由物理拉伸方法制得，具有表面光滑、直径均匀性好、机械性能高、强光场约束、强倏逝场、表面场增强效应及反常波导色散等特性，在光通信、激光、传感检测、非线性光学、量子光学等领域具有重要的应用前景。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 微纳光纤定制加工,微纳光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具技术参数规格参数单位数值工作波长nm430-2000nm锥形光纤腰椎直径nm400锥形光纤腰椎宽度mm2锥形区域长度mm35 (Typ. 40)附加损耗dB≤0.1dB包层直径um125光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1.所有的测试结果并不包含接头 2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制四,光纤端面带通滤波镀膜服务四,光纤端面带通滤波镀膜服务筱晓光子最新研发在光纤头上提供多种涂层，包括全/部分反射膜、长通、短通、带通，以及抗反射设计。应该理解的是，干扰涂层的性能取决于入射角（AOI），纤维呈现AOI到涂层尖端的分布。此外，我们的涂层尖端其硬度足以连接到其他光纤，从而使过滤器浸入玻璃过滤器配置中。所选光纤的数值孔径（NA）以及光纤在应用中的连接方式将影响滤波器性能，因此，我们要求客户填写以下清单，以帮助我们实现相关的镀膜定制服务。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 光纤端面带通滤波镀膜服务,光纤端面带通滤波镀膜服务产品特点● 可以设计和制造● 快速成型的大量库存● 大批量生产● 波长可选产品应用● 激光耦合● 光纤激光器● 光纤拉曼探针● 基于纤维的流式细胞术● 激光眼科手术● 光纤干涉仪技术参数镀膜曲线虽然多模光纤中的角分布必须考虑涂层处的AOI分布，但单模光纤和多模光纤都可以涂覆。涂层可以设计为在与另一根光纤或空气耦合时工作。我们可以提供广泛的滤波器设计，如抗反射、带通、短通、长通和部分反射器。镀膜短可以是接头、裸纤、锥形或透镜光纤都可以。滤波膜特征1● (circle one) LP SP BP Reflector (full or partial)● 起始波长 ___±___● 截止波长 ___±___● %T (peak) ________● 衰减波长范围 _________● Attenuation OD ___________● %R (peak) ______ ±_______● %R 波长范围 _________________光纤特征2● 数值孔径 (NA) ______● 纤芯直径 ______________● 包层直径 ______________● 光纤长度________________● 光纤材料(玻璃、塑料、硫系化合物) 工作波长下的单模或多模（圆形）● 模式填充程度（如果知道）______● 套管最大工作温度 ______● 其他 (保偏光纤,微结构光纤 etc)光纤端面特征3● 第一端连接器（FC、SC、LC、SMA、None）● 第二端连接器（FC、SC、LC、SMA、None）● 如果没有连接器（切割、透镜、裸光纤）● 哪一端需要涂层____________Fiber Configuration4在空气中工作的涂层尖端涂层尖端连接到未涂层尖端需要镀膜的数量_______________光纤供应商________________举例说明：BP-0760-037Specifications:CWL: 760 ±7 nmHW: 37 ±7 nmTmin: 60 %Blocking: 1200 nm Measured values:CWL = 759.88 nm...OKHW = 38.5 nm...OKCuton 5 % = 732.43 nmCutoff 5 % = 788.55 nm Spectrogon:HP1 = 740.63 nmHP2 = 779.12 nmTpeak = 93.14 %...OKTavg = 90.46 %Slope 1 = 1.55 %Slope 2 = 1.7 %注意事项：1. 陡峭的光谱边缘和严格的阻塞规范导致设计具有高物理厚度。我们发现光纤的尖端可以支撑高达6微米的材料。厚涂层可能会分层和/或导致芯-包层泄漏。建议客户使用建议过滤器的厚度。2. 高NA的多模光纤导致高AOI。高AOI会导致任何干扰滤波器蓝移。观测到的光谱性能将是每个角度性能的加权平均值。这些光谱位移可以建模和测量在AOI实验室。3. 筱晓在监测沉积过程中纤维尖端的反射率。这就需要监控光纤的未涂层端必须用连接器（最hao是FC/PC）端接。如果连接端不适用于给定的应用，我们将在客户光纤附近放置一根额外的光纤，用于监控。4. 如果一个单模尖端被涂覆并连接到另一个单模尖端，会出现接近零的蓝移。光纤的数量一次沉积允许的长度取决于光纤配置（连接、切割、捆绑等）。五,MFD模场直径匹配光纤定制加工五,MFD模场直径匹配光纤定制加工NIR-MFD-04-9-SA MFD模场直径匹配光纤(Mode Field Diameter Fiber)依赖我司全光纤加工技术，筱晓光子目前能够提供MFD模场直径匹配光纤加工定制服务.耦合不同模场直径的光纤必然导致模场直径不匹配造成损耗。然而，我们的热扩散技术可以将耦合造成的损失降到最低。这可用于商用SIS-MF。熔接端重新涂上保护套或覆盖保护套。该技术可应用于某一类型的保偏光纤，单模光纤，以及多模光纤。我们可以提供各种类型的模场直径匹配光纤定制加工，以满足您的需求：短的，长的，有接头的，也有特殊的光纤以及连接头的，请随时与我们销售联系。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 MFD模场直径匹配光纤定制加工,MFD模场直径匹配光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具技术参数规格参数单位数值工作波长nm430-2000nm附加损耗dB＜0.2dB消光比dB20 (Typ. 22)边抛长度mm17光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1.所有的测试结果并不包含接头 2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制产品结构六,干涉型单模微纳光纤传感器六,干涉型单模微纳光纤传感器微纳光纤传感器具有体积小巧、结构灵活、强瞬逝场等特点，基于周围液体折射率的测量， 能够实现对微弱生化成分变化的检测。已报道的微纳光纤折射率传感器包括光栅型、谐振型等。我们通过结构设计与优化，实现了几种干涉型微纳光纤折射率传感器，具有折射率灵敏度高、温度灵敏度低，制作成本低等优点，干涉型微纳光纤传感器方面的研究进展，包括高双折射微纳光纤环形传感器、级联长周期光栅传感器及基于单锥结构的微纳光纤干涉型传感器。通过对干涉仪几何结构的设计与优化，实现了 104 nm/RIU 量级的折射率感测灵敏度，为研制成本低廉、高灵敏度的光学生物化学传感器提供了可选方案。图 1 ：基于高双折射微纳光纤环镜结构的传感器原理图及实物图。 图2：基于级联微纳光纤长周期光栅的干涉型传感器原理图及实物图。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 干涉型单模微纳光纤传感器,干涉型单模微纳光纤传感器产品特点● 很强的干涉特性● 亚波长结构● 单模多模可选产品应用● 微纳光纤● 微纳光纤传感器● 干涉型传感器技术参数规格参数单位数值工作波长nm1270-2000nm双锥形光纤腰椎直径nm800锥形光纤腰椎宽度mm2锥形区域长度mm15 (Typ. 20)附加损耗dB≤7dB包层直径um125光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1. 所有的测试结果并不包含接头 2. 更好的参数或者其他需求我们可以接受定制测试光谱400nm1um品牌: 筱晓光子/microphotons
型号: FCA-10
价格：面议
电话: 400-860-5168转3429
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