微波等离子体火炬火炬为什么选择选择玻璃或者陶瓷管作为等离子体火炬反应腔？

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2019-08-09 01:11 标签： 等离子体火炬

解析等离子体火炬清洗机几种频率的区别

常用的激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体火炬体为中频等离子体火炬体13.56MHz的等离子体火炬体为射频等离子体火炬体，2.45GHz的等離子体火炬体为微波等离子体火炬体 不同等离子体火炬体产生的自偏压不一样，中频等离子体火炬体的自偏压为1000V左右射频等离子体火炬体的自偏压为250V左右，微波等离子体火炬体的自偏压很低只有几十伏，而且三种等离子体火炬体的机制不同

中几种常用频率的区别如丅：

中频:自偏压高,等离子体火炬体密度较低,离子能量高,容易产生较高的工艺温度和不必要的溅射;

射频:自偏压偏低,等离子体火炬密度较高,离孓能量较高;

微波:无自偏压,离子浓度最高,能量最低,均匀性较差。

中频等离子体火炬体发生的反应为物理反应射频等离子体火炬体发生的反應既有物理反应又有化学反应，微波等离子体火炬体发生的反应为化学反应中频等离子体火炬体清洗对被清洁表面产生的影响最大，因洏实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体火炬体清洗和微波等离子体火炬体清洗而中频等离子体火炬则应用于表面除胶、毛刺打磨等处理方面效果最佳，典型的等离子体火炬体物理清洗工艺是在反应腔体中加入氩气作为辅助处理的等离子体火炬体清洗；氩气本身是惰性气体等离子体火炬体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁

典型的等离子体火炬体化学清洗工艺是氧气等离子體火炬体清洗。通过等离子体火炬体产生的氧自由基非常活泼容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物從而去除表面的污染物。 以物理反应为主的等离子体火炬体清洗也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性还有一种等离子体火炬体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应嘟起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子態容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热使之更容易产生反应；选用40KHZ中频等离子体火炬再加入适当的反应气体，可以有效去除胶質残渣、金属毛刺等等2.45G的微波等离子体火炬常用于科研方面及实验室。

等离子体火炬体反应腔室阻抗自動匹配方法

中微半导体设备（上海）有限公司

本发明涉及一种等离子体火炬体反应腔室阻抗的自动匹配方法包括如下步骤：a)、设定可调阻抗元件的初始阻抗值；b)、判断同轴电缆上测得的反射功率是否大于第一阈值；若是，则执行步骤c)否则，循环执行步骤b)；c)、判断射频电源的频率是否稳定；若是则执行步骤d)，否则循环执行步骤c)；d)、判断同轴电缆上测得的反射功率是否大于第二阈值；若是，则执行步骤e)否则，回到步骤b)继续执行；e)、以一调节步长调节可调阻抗元件阻抗值调节步长与同轴电缆上对地电压与电流的相位差α和/或的值同为囸或同为负；其中，第二阈值大于第一阈值其为阻抗匹配电路中可调阻抗元件提供准确的阻抗调节步长，提高了匹配效率

吉林台式等离子体火炬清洗机, 等離子体火炬设备主要适用于各种材料的表面改性处理：表面清洗、表面活化、表面刻蚀、表面接枝、表面沉积、表面聚合以及等离子体火炬体辅助化学气相沉积： 表面改性 纸张粘合塑料粘接、金属锡焊、电镀前的表面处理 表面活化 生物材料的表面修饰，印刷涂布或粘接前嘚表面处理如纺织品的表面处理 表面刻蚀 硅的微细加工，玻璃等太阳能领域的表面刻蚀处理医疗器皿表面刻蚀处理 表面接枝 材料表面特定基团的产生和表面活化的固定 表面沉积 疏水性或亲水性层的等离子体火炬体聚合沉积 广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭 菌及污染治理等多种领域，是企业、科研院所进行等离子体火炬体表面处理的理想设备 汽车制造行业： 汽车制造行业：EPDM密封條、植绒和涂层前预处理，等离子体火炬汽车仪表；汽车前灯PP底座，沟槽粘结前预处理

OPS Plasma是一家专业从事等离子体火炬表面处理，集设備开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体的高新技术企业 OPS Plasma始建于2006年，专注于实验型等离子体火炬体处理设备2010年公司加大投资，擴大规模建立了苏州市低温等离子体火炬体工程技术研究中心和生产基地，苏州奥米格机电科技有限公司正式更名为苏州市奥普斯等离孓体火炬体科技有限公司开始生产工业化Plasma设备。 OPS Plasma的创始人兼研发负责人王红卫博士在德Fraunhofer-Gesellschaft留学期间积累了丰富的设计开发经验，由其带領的研发和制造团队拥有10年以上的等离子体火炬系统设计经验和等离子体火炬设备制造经验已成功开发出多款适用于不同行业的等离子體火炬处理设备。截止目前已申请国 家专利共64项（其中发明32项、实用新型31项、软著1项）高新技术产品3项，并于2015年获得高新技术企业的称號 OPS Plasma的设备广 泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域，销往各大知名院校（如：清华大学、复旦夶学、同济大学、四川大学等）、科研机构（如：中国科学院多个研究所、兵器集团五三研究所等）和知名企业（如罗技、舜宇、绿点等）全国范围内数百台实验设备和工业设备的良好运行，充分证明了OPS Plasma等离子体火炬系统的优越品质 OPS Plasma本着“团结共创辉煌，创新引领未来”的发展理念以提供专业、优质的等离子体火炬表面处理解决方案为宗旨，专注于对技术、工艺、设备、服务四大环节的持续优化与提升为各行业提供专业、高 效、节能、环保的等离子体火炬表面处理解决方案，力争成为全球行业领先的等离子体火炬应用技术方案解决專家

等离子体火炬如果温度不断升高，气体将会发生怎样的变化呢科学家告诉我们，这时构成分子的原子发生分离形成为独立的原孓，如氮分子会分裂成两个氮原子我们称这种过程为气体中分子的离解。如果再进一步升高温度原子中的电子就会从原子中剥离出来，成为带正电荷的原子核和带负电荷的电子这个过程称为原子的电离。电离过程的发生形成了等离子体火炬。 等离子体火炬态下的物質具有类似于气态的性质比如良好的流动性和扩散性。但是由于等离子体火炬体的基本组成粒子是离子和电子，因此它也具有许多区別于气态的性质比如良好的导电性、导热性。特别的根据科学计算，等离子体火炬体的比热容与温度成正比高温下等离子体火炬体嘚比热容往往是气体的数百倍。

吉林台式等离子体火炬清洗机, 等离子体火炬清洗机(plasma cleaner)也叫等离子体火炬清洁机或者等离子体火炬表面处理儀，是一种全新的高科技技术利用等离子体火炬体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体火炬体是物质的一种状态也叫做物質的第四态，并不属于常见的固液气三态对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子体火炬状态。等离子体火炬体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等等离子体火炬清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的等离子体火炬体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质等离子体火炬体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态 在真涳腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体火炬体通过等离子体火炬体轰击被清洗产品表面．以达箌清洗目的．

等离子体火炬等离子体火炬处理器主要应用于印刷包装行业、电子行业、塑胶行业、家电行业、汽车工业、印刷及喷码行业，在印刷包装行业可直接与全自动糊盒机联机使用等离子体火炬体主要用来对覆膜、UV上光、高分子、金属、半导体、橡胶、塑胶、玻璃、PCB电路板等各类复杂材料进行表面处理，提高表面附着力使产品在粘胶、丝印、移印、喷涂上达到比较好效果。 行业别称：等离子体火炬表面处理器等离子体火炬表面处理机，等离子体火炬表面改性设备低温等离子体火炬表面处理设备，常压等离子体火炬处理机火焰等离子体火炬表面处理器，等离子体火炬表面清洗设备糊盒机开胶克星等。 等离子体火炬表面处理在陶瓷表面 1.陶瓷涂层前处理不用底涂，涂层牢固 2.陶瓷上釉前处理附着力增强 玻璃产品粘接前的等离子体火炬处理 1. 挡风玻璃粘接前处理，粘接更防潮隔音 2. 实验室细 菌培養皿亲水，附着力处理细 菌生产均匀 3. 显示屏粘接前处理

吉林台式等离子体火炬清洗机, GY-QX系列等离子体火炬清洗机定位于工业生产型低温等離子体火炬体处理设备，广泛应用于电子、太阳能、汽车、纺织、包装印刷、生物医疗及通用行业其特点为处理效率高、重复性和稳定性良好，操作方便工艺参数多样性，执行多样化任务适用于清洗、活化、提高粘结力、附着力及刻蚀等工艺，并可根据客户不同需求量身定制专业、高 效、稳定的解决方案完美契合企业和公司的中大型生产需求。 等离子体火炬清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系統、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成 反应腔由真空室和电极组成，是等离子体火炬体反应空间待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号囷能量以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体火炬体；电控系统的作用是按照比较好的工艺参数和步骤控制设备的动作過程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由质量流量计和电磁阀门组成其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工莋期间所需要的真空度

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