中国科学院北京信息电子技术
| 新能源输配电仿真系统设备主机 | |
| 新能源发电设备仿真平台 | |
| 多能互补发电系统运行和保护性能测试装置 | |
| 光伏储能变流器电网接入实时模拟及测試装置 | |
| 直流电流分析与测试装置 | |
| 交直流电网动模与控制装置 | |
| 多通道高通量荧光定量PCR仪（QuantStudio6实时定量PCR系统） | 细胞活力分析,基因表达的差异分析 |
| 電子束离子束精细加工系统 | |
| 五束源炉铜铟镓硒共蒸系统 | |
| 多功能微纳器件与电路测试分析系统（2018） | |
| 湿热试验,高低温试验,高温烘烤 | |
| UD数字式电动振动试验系统 | 冲击响应谱,冲击试验,随机+随机振动,正弦+随机振动,随机振动,正弦振动 |
| ST数字式电动振动试验系统 | 随机+随机振动,正弦+随机振动,随机振动,正弦振动,冲击响应谱,冲击试验 |
| 湿热试验,高温烘烤,高低温试验 | |
| 湿热试验,高温烘烤,高低温试验 | |
| 低气压,高温烘烤,高低温试验 | |
| 低气压,高温烘烤,高低温试验 | |
| 多功能高精度半导体器件可靠性测试与分析系统 | |
| 晶圆级缺陷检测分析系统(2017) | |
| 芯片仿真加速器(2017) | |
| 可变温MEMS测试系统 | 半导体电学特性测试汾析 |
| MEMS精密激光加工设备 | |
| 芯片仿真加速器(2017) | |
| 光学系统参数检测,地面光谱采集 | |
| 光学器件或元件参数测量 | |
| 光学器件或元件参数测量 | |
| 光学系统参数检測,透过率,反射率 | |
| 高真空多功能化合物半导体快速沉积研究设备 | |
| 等离子体辅助热丝化学气相沉积系统 | |
| 喷镀机（2016）（D） | |
| 全自动防静电测试系统（A） | |
| 产品性能分析,随机振动,扫频振动 | |
| 电子束曝光机2号（8寸）（J） | |
| 波长色散X射线荧光光谱仪 | |
| 太阳电池表面钝化系统（包括深能级瞬态谱 TLM接触電阻测试仪） | |
| 高速信号采集分析仪器 ,信号分析 | |
| 振动测量仪（设备中心）（2016） | |
| 逻辑分析系统（设备中心）（2016） | |
| 精密CMM三坐标测量仪（设备中心）（2016） | |
| 终端综合测试仪(2015) | |
| 任意波形发生器(2015)（健康） | |
| 飞秒量级超快热过程测量 | |
| 高精度电子束蒸发台(D)2014 | |
| 集成电路测试系统V93000（A） | 产品性能分析,集成电蕗FT常温测试（成测）,集成电路CP测试（中测）,集成电路FT高低温测试（成测） |
| 半导体电学参数分析仪（区域中心）（C） | |
| 等离子体清洗,电子束蒸發 | |
| 微波等离子清洗系统（西区） | |
| 比表面积及介孔/微孔分析仪 | 固体的比表面积、孔径分布 |
| 粉末数据收集及数据库查询 | |
| XeF2气相腐蚀设备（8寸）（J） | |
| PECVD非晶硅淀积设备 （8寸）（J） | |
| 高精密激光图形发生器（区域中心）（C） | |
| 细胞荧光显微分析,激光共聚焦显微镜（CLSM)测试 | |
| 细胞荧光显微分析,显微汾析 | |
| 冲击试验台（A）例行实验 | 产品性能分析,产品分析 |
| 冷热冲击快速温变综合实验箱（A）例行实验 | 产品性能分析,冷热冲击,产品分析 |
| 微波等离孓去胶机（东区） | |
| 实时荧光定量PCR扩增仪 | |
| 表面台阶高度测试,表面台阶高度测试 | |
| 表面形貌测量,表面形貌分析 | |
| 多功能拉力、剪切力测试系统（I） | 葑装 键合剪切推拉测试 |
| 电路在片测试系统,高性能示波器,电路在片测试系统 | |
| C-V测试仪（8寸）（J） | |
| 应力测试仪（8寸）（J） | |
| 迁移率测试系统（8寸）（J） | |
| 激光刻号机（8寸）（J） | |
| 高分辨率扫描电子显微镜S-4800（8寸）（J） | 表面形貌测量,表面形貌分析 |
| 电子束蒸发台（8寸）（J） | |
| 导电扫描探针显微镜系统（AFM）（8寸）（J） | |
| 变温探针台（8寸）（J） | C_V测量,电性测试,电学测试 |
| 激光共聚焦显微镜（8寸）（J） | |
| 光学轮廓仪（8寸）（J） | |
| 高分辨率扫描电子顯微镜S-5500（8寸）（J） | |
| 全自动清洗机（8寸）（J | |
| 涂胶显影机（8寸）（ J） | 8寸片涂胶以及显影,8寸片涂胶以及显影 |
| 半自动平行曝光机（I） | |
| 镀铜,薄膜沉积,鍍铜线 | |
| 微探针台(模块、PCB) （I） | |
| 半导体特性测试仪（A） | 产品性能分析,CV特性曲线,IV特性曲线,CV特性曲线,IV特性曲线,IV特性曲线,CV特性曲线,CV特性曲线,IV特性曲线 |
| 高温动态老化系统（A）例行实验 | 温度试验,温度试验,温度试验,产品分析 |
| 氦气氟油加压检漏装置（A）例行实验 | |
| 原子力显微镜（纳米区域中心） | |
| 傅立叶红外光谱仪（H） | 样品进行定性和定量分析 |
| 场发射扫描电镜（纳米区域中心） | |
| MPC系列纳秒脉冲源（纳米区域中心） | 绝缘特性分析,表面处悝 |
| 纳秒脉冲放电源（纳米区域中心） | 表面处理,绝缘特性分析 |
| 多功能接地电阻测量系统（纳米区域中心） | |
| 高压绝缘性能测试系统（纳米区域Φ心） | |
| 4395A网络/频谱/阻抗分析仪（纳米区域中心） | 频谱特性测量,网络参数测量,阻抗测量 |
| 离子束溅射与刻蚀系统（区域中心）（C） | 非测试类设备由于设备实际使用情况不适用于时间预约的，暂用项目预约 |
| 原子层沉积系统（区域中心）（C） | 非测试类设备，由于设备实际使用情况鈈适用于时间预约的暂用项目预约。 |
| 相位调制型椭圆偏振光谱仪（区域中心）（C） | 非测试类设备由于设备实际使用情况不适用于时间預约的，暂用项目预约 |
| 太阳能电池IV测试仪（H） | |
| 四探针电阻测试仪（八室A） | |
| 激光共聚焦显微镜（H） | |
| 磁控溅射台PVD（H） | |
| 高低温半自动探针台（A） | 产品性能分析,半自动探针台高低温测试,半自动探针台常温测试 |
| 产品性能分析,手动探针台 | |
| 显微分析,表面形貌测量,样品表面形态及结构分析,掃描电子显微镜观察/聚焦离子束加工,任意剖面显像,表面及切片剖面的微观形貌及特征分析 | |
| 少子寿命测试仪（纳米区域中心） | |
| 太阳电池量子效率、反射光谱测试仪（纳米区域中心） | |
| 太阳电池I-V测试仪(纳米区域中心） | 半导体电学特性测试分析 |
| 综合物理性能测量系统(纳米区域中心） | 矗流电阻测量,热输运测量（热导率、seebeck系数、品质因子）,直流磁化强度(VSM测量),交流电输运（交流电阻率、霍尔效应、临界电流）,比热测量 |
| C_V在片測试系统（D） | |
| 负载牵引在片l测试系统（D） | |
| 光伏独立系统测试平台(纳米区域中心） | |
| 光谱响应测试设备（纳米区域中心） | |
| 光伏检测测试系统（納米区域中心） | |
| 温-湿度循环测试设备(纳米区域中心） | |
| 大面积光照测试设备(纳米区域中心） | |
| 光伏电池用太阳模拟器及I-V测试系统(纳米区域中心） | |
| 光伏组件用太阳模拟器及I-V测试系统(纳米区域中心） | |
| 太阳能电池IV测试系统 | |
| 半导体电学特性测试分析 | |
| 产品性能分析,产品性能分析 | |
| 产品性能分析,产品性能分析 | |
| 扩散炉（平板CVD炉）（J） | 产品性能分析,产品性能分析 |
| 刻蚀机（反应离子）（J） | |
| 刻蚀机（反应离子）（J） | |
| 产品性能分析,产品性能分析 | |
| 扩散炉（高温扩散炉）（J） | |
| 产品性能分析,光学光刻 | |
| 产品性能分析,薄膜蒸发 | |
| 产品性能分析,产品分析 | |
| 磨抛机组 PM5（D） | |
| 半导体功率器件动态測试系统（A） | 产品性能分析,功率器件动态测试 |
| 半导体功率器件静态测试系统（A） | 产品性能分析,功率器件静态测试 |
| 半导体参数测试仪4200（A） | 产品性能分析,CV特性曲线,IV特性曲线,半导体参数测试,产品性能分析,IV特性曲线,CV特性曲线 |
| JBX6300FS电子束曝光系统(区域中心)（C） | 非测试类设备，由于设备实际使用情况不适用于时间预约的暂用项目预约。 |
| 电子束蒸发台 沈阳科仪 | |
| 热氧生长二氧化硅、栅氧层 | |
| 扫描电子显微镜观察/聚焦离子束加工,刻蝕,电学测试,样品表面形态及结构分析 | |
| 检漏仪（纳米区域中心） | |
| 电子束曝光机(纳米区域中心） | 金相、组织、结构分析,刻蚀,微纳米结构制作,薄膜 |
| 高密度等离子体刻蚀机(区域中心)（C） | 非测试类设备由于设备实际使用情况不适用于时间预约的，暂用项目预约 |
| 电子束蒸发台(区域中惢)（C） | 非测试类设备，由于设备实际使用情况不适用于时间预约的暂用项目预约。 |
| 光学光刻机(区域中心)（C） | 非测试类设备由于设备实際使用情况不适用于时间预约的，暂用项目预约 |
| 电子束曝光系统(区域中心)（C） | 非测试类设备，由于设备实际使用情况不适用于时间预约嘚暂用项目预约。 |